Trapcode Particular3.0漢化版是一款電腦AE輔助軟件，該工具完美漢化，并且用戶可以直接免費(fèi)使用無需注冊(cè)碼， 軟件帶來的粒子效果極為逼真炫麗，快下載安裝吧！

軟件介紹

Trapcode Particular V3最新破解版，是屬于Red Giant Trapcode Suite（紅巨人粒子特效套裝插件）中的一款粒子插件。可以產(chǎn)生各種各樣的自然粒子效果，像煙、火、閃光，也可以產(chǎn)生有機(jī)的和高科技風(fēng)格的圖形效果，對(duì)于運(yùn)動(dòng)的圖形設(shè)計(jì)是非常有用的。小編為大家分享Trapcode Particular破解版下載，含注冊(cè)碼。

安裝方法

1、下載并安裝Trapcode Particular，使用下面的注冊(cè)碼。

Trapcode Particular V3注冊(cè)碼：92608846345644048269

2、安裝完成后即可在AE使用。

支持：Adobe After Effects CC 2015 2014, CC, CS6, CS5.5, CS5，CC 2015.3，CC 2017，CC 2018。

軟件功能

支持GPU加速 – 通過OpenGL， Trapcode Particular GPU加速獲得快速反饋。根據(jù)您的系統(tǒng)和設(shè)置，您可以看到與以前的版本相比，速度提升高達(dá)4倍以上。

重新設(shè)計(jì)界面Designer – 創(chuàng)建粒子效果器比以往任何時(shí)候都更容易，在新改良的Designer中。為發(fā)射器，粒子，物理和輔助粒子，添加具有預(yù)設(shè)行為和樣式的可調(diào)節(jié)版塊?；騿螕籼砑油暾?，可定制的粒子效果。Designer立即提供視覺反饋，使新建粒子和預(yù)覽效果具有直觀和創(chuàng)造性的體驗(yàn)。特別是Particular 4，新的Designer可以匹配AE合成大小，引入合成和攝像機(jī)信息。通過使用攝像機(jī)和發(fā)射器位置，可以控制預(yù)覽您的粒子布局。

多系統(tǒng)Multiple Systems（新功能） – 當(dāng)您在同一3D空間中組合多個(gè)粒子系統(tǒng)時(shí)，首次探索無盡的創(chuàng)意。通過不同系統(tǒng)的互動(dòng)創(chuàng)造美麗，復(fù)雜的效果，都在特定的一個(gè)實(shí)例中。多系統(tǒng)設(shè)置中的發(fā)射器可以共享參數(shù)設(shè)置（如 turbulence，重力等），并可以保存為單個(gè)預(yù)設(shè)。書生原創(chuàng)文章，請(qǐng)不要復(fù)制。

OBJ作為發(fā)射器 （新功能）– 通過使用3D模型和動(dòng)畫OBJ序列作為粒子發(fā)射器，為粒子系統(tǒng)提供新的維度。為了增加靈活性，您可以選擇從OBJ文件的頂點(diǎn)，邊，面或體積，發(fā)射粒子。也可以從特定的超過60個(gè)OBJ庫中選擇，或者直接在After Effects中或Designer中使用新的OBJ加載面板，輕松加載自己的模型。

Sprites精靈和多邊形 – 可以使用合成中的任何圖像作為粒子，將其分配給2D sprite或紋理多邊形。Particular 4現(xiàn)在包括超過270個(gè)靜態(tài)和動(dòng)畫的精靈圖像，可以輕松地在After Effects中直接加載，或者通過新的Designer中加載。書生原創(chuàng)文章，請(qǐng)不要復(fù)制

輔助系統(tǒng) – 通過特殊的輔助系統(tǒng)產(chǎn)生新的子粒子。創(chuàng)建有機(jī)軌跡和分支，或在彈起后構(gòu)建飛濺。Particular 4更新Aux系統(tǒng)，包括添加自定義粒子以獲得更多變化的能力，以及用于更多控制的關(guān)鍵幀參數(shù)。書生原創(chuàng)文章，請(qǐng)不要復(fù)制

300多個(gè)預(yù)設(shè) – 300多個(gè)完全可自定義的設(shè)計(jì)器預(yù)設(shè)啟動(dòng)界面。Particular 4包括超過210個(gè)新的預(yù)設(shè)，如多系統(tǒng)，OBJ發(fā)射器等。通過探索預(yù)設(shè)庫，發(fā)現(xiàn)精美設(shè)計(jì)的效果，可用于創(chuàng)建火，太空飛船，煙火，槍口火花，爆炸，煙霧等。保存您自己的預(yù)設(shè)，并將其分享。

更新內(nèi)容

文本發(fā)射器 – 使用文本作為發(fā)射器，從以前的版本中大大加快了創(chuàng)建過程。無需預(yù)編譯。通過控制沿文本路徑顯示粒子來創(chuàng)建寫入效果。

遮罩發(fā)射器 – 使用MASK遮罩作為發(fā)射器，可以輕松創(chuàng)建獨(dú)特形狀的發(fā)射器或使用圖像的某些部分作為粒子發(fā)射源。無需預(yù)編譯。通過控制沿著遮罩路徑的粒子顯示來創(chuàng)建寫入效果。

更新的設(shè)計(jì)器 – 此版本中的新增功能是對(duì)文本和遮罩的支持，可以直接在Designer中創(chuàng)建文本和遮罩基于路徑的效果。

Shadowlet粒子類型匹配 – 將Shadowlet形狀與源匹配的陰影的粒子類型相匹配。以前，所有的影子都是圓形的。

Shadowlet柔軟度 – 控制陰影的柔和度。

預(yù)設(shè) – 添加了21個(gè)新預(yù)設(shè)，為您提供實(shí)時(shí)預(yù)覽，并幫助您開始使用新功能。現(xiàn)在有超過355個(gè)預(yù)設(shè)。